cvd反应器形状分类

2024-01-18 11:56:38 143次

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CVD反应器的形状可以根据反应室的几何形状来分类，常见的反应器形状包括：

1. 筒形反应器：反应室为圆柱形，通常采用旋转底板进行气体混合和均匀沉积。

2. 管状反应器：反应室为管状，适用于大量生产高质量的纳米管等材料。

3. 平板反应器：反应室为平板状，适用于大尺寸的薄膜制备。

4. 圆盘反应器：反应室为圆盘形，适用于制备大面积的薄膜。

5. 半导体加热反应器：通常为圆筒形，具有良好的加热均匀性和反应室气氛控制能力。

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CVD技术根据反应类型或者压力可分为低压CVD(LPCVD)、常压CVD(APCVD)、亚常压CVD(SACVD)、超高真空CVD(UHCVD)、等离子体增强CVD(PECVD)、高密度等离子体CVD(HDPCVD)、快热CVD(RTCVD)、金属有机物CVD(MOCVD)

CVD技术是化学气相沉积Chemical Vapor Deposition的缩写。