电化学击穿和电击穿是两种不同的现象,它们的区别在于引起击穿的原因和机制不同。
电化学击穿是由于电解液或电解质的存在而引起的。当电解液或电解质被施加高电压时,电解液或电解质中的离子会在电场作用下发生迁移,形成电流。如果电压过高,离子的迁移速度会加快,导致电流急剧增加,最终导致电化学击穿。电击穿则是由于绝缘体内部存在缺陷或杂质,导致局部电场集中,从而引起的击穿现象。当绝缘体内部存在缺陷或杂质时,电场会在这些缺陷或杂质处集中,导致局部电场强度增加。如果电压过高,局部电场强度会超过绝缘体的临界电场强度,从而导致电击穿。总的来说,电化学击穿是由于电解液或电解质的存在而引起的,而电击穿则是由于绝缘体内部存在缺陷或杂质而引起的。电化学击穿通常需要更高的电压才能引起,而电击穿则通常发生在较低的电压下。